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2025年光刻機品牌

光刻機品牌排行榜,半導體光刻機企業(yè)排行,光刻機有哪些品牌
光刻機哪個好?經(jīng)專業(yè)評測的2025年光刻機名單發(fā)布啦!居前五的有:ASML阿斯麥、Nikon、Canon、芯上微裝Amies、SMEE等,上榜光刻機五大榜單和著名光刻機名單的是口碑好或知名度高、有實力的,排名不分先后,僅供借鑒參考,想知道哪個光刻機好?您可以多比較,選擇自己滿意的!光刻機品牌主要屬于商標分類的第7類。榜單更新時間:2025年09月18日(每月更新)
十大品牌榜
人氣榜
口碑點贊榜
榮譽勛章榜
關(guān)注榜
  • NO.1
    ASML阿斯麥
    阿斯麥(上海)光刻設備科技有限公司
    3個行業(yè)上榜十大品牌
    成立時間1984年
    注冊資本2顆星
    關(guān)注度1萬+
    品牌得票1萬+
    荷蘭
    品牌指數(shù)88.3
    評分8.9 口碑指數(shù)622 已點亮標簽6個 未點亮標簽7個
    ASML創(chuàng)立于1984年,全球芯片光刻設備市場領(lǐng)導者,是全球最大的半導體光刻設備制造商之一,ASML于2000年推出TWINSCAN光刻機,2010年成功研發(fā)首臺EUV光刻機,是當前唯一可以生產(chǎn)EUV光刻機的公司。ASML在全球10余個國家設有60余個辦公室。查看更多>>
  • NO.2
    Nikon
    尼康精機(上海)有限公司
    2個行業(yè)上榜十大品牌
    1個行業(yè)品牌金鳳冠
    注冊資本3顆星
    關(guān)注度2924+
    品牌得票1萬+
    日本
    品牌指數(shù)87.2
    評分9 口碑指數(shù)3193 已點亮標簽6個 未點亮標簽5個
    Nikon光刻機隸屬尼康精機事業(yè)部,研制用于半導體生產(chǎn)的半導體光刻設備的開發(fā)與研究,Nikon光刻機業(yè)務涵蓋ArFi光刻機、ArF光刻機、KrF光刻機、i-line光刻機系列集成電路用光刻機及面板用光刻機,是全球范圍內(nèi)較大的光刻機制造商。查看更多>>
  • NO.3
    Canon
    佳能光學設備(上海)有限公司
    1個行業(yè)上榜十大品牌
    1個行業(yè)品牌金鳳冠
    注冊資本3顆星
    關(guān)注度2104+
    品牌得票7732+
    日本
    品牌指數(shù)86
    評分9 口碑指數(shù)3055 已點亮標簽6個 未點亮標簽5個
    佳能光刻機歷史源于Canon對相機鏡頭技術(shù)的應用,Canon于1970年成功發(fā)售日本首臺半導體光刻機PPC-1,目前佳能的光刻機產(chǎn)品包括i線光刻機和KrF光刻機產(chǎn)品線,佳能光學設備是佳能公司在中國大陸地區(qū)成立的提供半導體及液晶面板生產(chǎn)設備營業(yè)輔助業(yè)務和技術(shù)支持業(yè)務的公司。查看更多>>
  • NO.4
    芯上微裝Amies
    上海芯上微裝科技股份有限公司
    1個行業(yè)上榜十大品牌
    成立時間2025年
    注冊資本3顆星
    關(guān)注度11+
    上海市
    品牌指數(shù)84.5
    評分8.8 口碑指數(shù)41 已點亮標簽5個 未點亮標簽6個
    芯上微裝是一家專注于高端半導體裝備研發(fā)、生產(chǎn)和服務的創(chuàng)新型科技企業(yè),致力于為芯片制造、芯片先進封裝、三代半導體和新型顯示等核心領(lǐng)域提供高精度、高性能、高可靠性的設備解決方案,已成為國內(nèi)后道封裝光刻機領(lǐng)域領(lǐng)先者。查看更多>>
  • NO.5
    SMEE
    上海微電子裝備(集團)股份有限公司
    國家企業(yè)技術(shù)中心
    國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)
    2個行業(yè)上榜十大品牌
    4個行業(yè)品牌金鳳冠
    成立時間2002年
    注冊資本4顆星
    關(guān)注度3萬+
    品牌得票1萬+
    上海市
    品牌指數(shù)83.4
    評分9 口碑指數(shù)670 已點亮標簽9個 未點亮標簽8個
    SMEE成立于2002年,是國產(chǎn)半導體光刻設備領(lǐng)域佼佼者,主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術(shù)服務,廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。查看更多>>
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光刻機的種類有哪些 光刻機怎么制造芯片
光刻機顧名思義就是“用光來雕刻的機器”,是芯片產(chǎn)業(yè)中寶貴且技術(shù)難度最大的機器。光刻機的種類有哪些?光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,有接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光等光刻機。光刻機怎么制造芯片?下面來了解下。
光刻機 芯片
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光刻機是干什么用的 光刻機的工作原理
光刻機是芯片制造的核心設備之一,被譽為“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”,無論生產(chǎn)制造什么樣的芯片,都脫離不了光刻機。光刻機采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。下面來了解下光刻機。
光刻機是誰發(fā)明的 光刻機制造需要哪些技術(shù)
光刻機是一種高精密芯片制造設備,如果想要自主生產(chǎn)芯片,光刻機是必要的。那么光刻機是誰發(fā)明的?光刻機是法國人Nicephore niepce尼埃普斯發(fā)明的,現(xiàn)已成為半導體生產(chǎn)制造的主要生產(chǎn)設備。光刻機制造需要哪些技術(shù)?下面來了解下。
光刻機 芯片
2321 13
光刻機哪個國家能造 光刻機的難度在哪里
光刻機被譽為“現(xiàn)代光學工業(yè)之花”,號稱比研制原子彈還困難!全球只有3個國家能造。在全球高端光刻機市場,荷蘭達到全球領(lǐng)先水平,除了荷蘭,日本、中國也可以制造光刻機。但我國一直被西方國家牢牢“卡脖子”,至今都沒能突破尖端技術(shù)。那么,研制光刻機的難度在哪里?
光刻機 芯片
1870 6
光刻機中國能造嗎 國產(chǎn)光刻機和荷蘭光刻機的差距在哪里
光刻機是光刻工藝的核心設備,光刻的工藝水平直接決定芯片的制程和性能水平,目前光刻機做的最好的國家就是荷蘭,我國雖然也有研制光刻機的能力,但國產(chǎn)光刻機與國外頂尖光刻機存在的差距比較明顯。下面來了解下國產(chǎn)光刻機和荷蘭光刻機的差距。
光刻機 芯片
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光刻機和芯片有什么關(guān)系 光刻機和芯片哪個更難
光刻機和芯片有什么關(guān)系?在芯片制造過程中是離不開光刻機的,光刻機是制造芯片的核心裝備,芯片的集成水平取決于光刻機的精度。光刻機和芯片哪個更難?都很難的,不過光刻機難度最大,目前我國只能自主量產(chǎn)90納米光刻機,與荷蘭的差距還很大。
光刻機 芯片
2757 6
中國光刻機現(xiàn)在多少納米 中國高端光刻機什么時候能研制出來
光刻機是制造芯片的關(guān)鍵設備,是世界上最復雜的精密設備之一,也是工時和成本占比最高的設備,更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶,目前世界上只有3個國家有能力制造出光刻機,我國就是其中一個。那么,中國光刻機現(xiàn)在多少納米?中國高端光刻機什么時候能研制出來?
光刻機 芯片
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光刻機哪個國家的最好 為什么荷蘭能夠造出頂級的光刻機
光刻機是一個非常尖端的工藝技術(shù),目前僅有少數(shù)國家能研制光刻機,那么光刻機哪個國家的最好?在高端光刻機領(lǐng)域,荷蘭是領(lǐng)頭羊,很多發(fā)達國家都嚴重依賴荷蘭的光刻機,在光刻機領(lǐng)域有著絕對的話語權(quán)。為什么荷蘭能夠造出頂級的光刻機?下面來了解下。
光刻機 芯片
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制造芯片一定要光刻機嗎 蝕刻機能代替光刻機嗎
芯片堪稱工業(yè)的糧食,是科技時代的重要生產(chǎn)力,手機、電腦及數(shù)碼產(chǎn)品都離不開芯片的支撐,而制造芯片的重要設備之一就是光刻機,但是光刻機很稀缺,全球只有3個國家能造,那么制造芯片一定要光刻機嗎?蝕刻機能代替光刻機嗎?下面來了解下。
光刻機 芯片
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光刻機多少錢一臺 一臺光刻機一天能生產(chǎn)多少芯片
光刻機是我國現(xiàn)代技術(shù)的一個短板,在芯片技術(shù)的發(fā)展上,我國也一直受國外的制裁。但是對于現(xiàn)代工業(yè)來說,芯片是核心中的核心,沒有了芯片,很多產(chǎn)品都有可能陷入癱瘓當中。那么光刻機多少錢一臺?一臺光刻機一天能生產(chǎn)多少芯片?
光刻機 芯片
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光刻機的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)

一、光刻機是干什么用的

光刻機是用來制造芯片的。光刻機又被稱為掩膜對準曝光機,在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設備。

光刻機決定了芯片的精密尺寸,設計師設計好芯片線路,再通過光刻機將線路刻在芯片上,其尺度通常在微米級以上。

光刻機是芯片生產(chǎn)中最昂貴也是技術(shù)難度最大的設備,因為其決定了一塊芯片的整體框架與功能。

其實生產(chǎn)高精度芯片并不難,只是生產(chǎn)速度太慢,而光刻機能快速生產(chǎn)高精度的芯片,所以很重要。

二、光刻機的工作原理

利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用,類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件。

簡單點來說,光刻機就是放大的單反,光刻機就是將光罩上的設計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上,形成圖形。

三、光刻機的性能指標

光刻機的主要性能指標有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準分子激光器等。

四、光刻機制造需要哪些技術(shù)

光刻機的制造體系非常復雜,有兩點至關(guān)重要,即精密零部件和組裝技術(shù)。

1、精密零部件

一臺光刻機的制造需要數(shù)萬個精密零部件。通常來說,一臺光刻機的制造需要大約八萬個精密零件,而目前世界上最為先進的極紫外EUV光刻機所需要的制造零件更是高達十萬余個。

一套完整的光刻機包括多個組成系統(tǒng),主要包括曝光系統(tǒng)、自動對準系統(tǒng)、整機軟件系統(tǒng)等。其中,曝光系統(tǒng)更是包含了照明系統(tǒng)和投影物鏡。

在組成光科技的所有核心精密零件中,光學鏡頭、光學光源、雙工作臺又可以說是核心中的核心。

擁有高數(shù)值孔徑的光學鏡頭是決定光刻機的分辨率和閾值誤差能力。而分辨率和套值誤差能力對于一臺品牌光刻機具有至關(guān)重要的重要性。而世界上最為先進的EUV極紫外光刻機唯一可以使用的鏡頭就是由蔡司公司生產(chǎn)的鏡頭。

光刻機的光學光源所包含的光源波長是決定光刻機工業(yè)能力的重要部分。需要特別注意的是,光刻機所需要的光源,必須具備體積小、功率高以及穩(wěn)定的幾個特點。

比如說極紫外EUV光刻機所使用的光源波長是僅僅只有13.5納米的極紫外光,其所使用的光學系統(tǒng)極為復雜。

光刻機中所需要的工作臺系能夠影響光刻機運行過程中的精度和產(chǎn)效,含有的綜合技術(shù)難度非常高。因為這種工作臺中具有承載硅片來能夠完成光刻機運行過程中的一系列超精密的運動系統(tǒng),其中包括上下片、對準、景圓面型測量、曝光等等。

2、組裝技術(shù)

一臺光刻機不僅需要精密的零件,這些零件的組裝技術(shù)也至關(guān)重要。

當所有零件都準備就緒之后,接下來的組裝過程將直接影響一個光刻機的運行效能。現(xiàn)在光刻機主要生產(chǎn)商荷蘭ASML公司(中文譯名:阿斯麥爾)的生產(chǎn)過程從本質(zhì)上來說更像是一個零件組裝公司,因為ASML公司生產(chǎn)光刻機所需要的將近90%的部件是從世界各地采購,其在世界上擁有超過五千家供應商。

換句話說,ASML公司之所以能夠在光刻機制造技術(shù)上打敗尼康以及佳能等其他光刻機生產(chǎn)對手,從而在全球光刻機制造和銷售市場上占據(jù)領(lǐng)先地位,一個重要原因就是強大的組裝技術(shù)。

一家強大的光刻機組裝企業(yè)需要具有各種嫻熟的技術(shù)工人和各種組裝方面的知識產(chǎn)權(quán),從而能夠清楚明白各種精密元件如何組裝,進而通過他們嫻熟的操作和系統(tǒng)的知識來快速和精確的制造一臺光刻機。

我國目前在光刻機的技術(shù)方面,經(jīng)過近二十年的關(guān)鍵技術(shù)攻克,已經(jīng)取得長足發(fā)展。

從光刻機雙工作臺來說,中國華卓精科與清華團隊生產(chǎn)聯(lián)合研制的雙工作臺已經(jīng)打破ASML的技術(shù)壟斷,至于光刻機的同步光源設備和光學鏡頭的技術(shù)也在哈工大等全國知名科研機構(gòu)的潛心研究中獲得了迅猛發(fā)展。

可以說,目前我國人才、資源、資金等各個方面都已具備,未來我們擁有屬于自己的光刻機只是時間問題,未來前景可期!