一、光刻機是干什么用的

光刻機是用來制造芯片的。光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設備。

光刻機決定了芯片的精密尺寸，設計師設計好芯片線路，再通過光刻機將線路刻在芯片上，其尺度通常在微米級以上。

光刻機是芯片生產(chǎn)中最昂貴也是技術難度最大的設備，因為其決定了一塊芯片的整體框架與功能。

其實生產(chǎn)高精度芯片并不難，只是生產(chǎn)速度太慢，而光刻機能快速生產(chǎn)高精度的芯片，所以很重要。

二、光刻機的工作原理

利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。

簡單點來說，光刻機就是放大的單反，光刻機就是將光罩上的設計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上，形成圖形。

三、光刻機的性能指標

光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準分子激光器等。