一、光刻機(jī)是干什么用的

光刻機(jī)是用來(lái)制造芯片的。光刻機(jī)又被稱為掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步，所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備。

光刻機(jī)決定了芯片的精密尺寸，設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)好芯片線路，再通過(guò)光刻機(jī)將線路刻在芯片上，其尺度通常在微米級(jí)以上。

光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)中最昂貴也是技術(shù)難度最大的設(shè)備，因?yàn)槠錄Q定了一塊芯片的整體框架與功能。

其實(shí)生產(chǎn)高精度芯片并不難，只是生產(chǎn)速度太慢，而光刻機(jī)能快速生產(chǎn)高精度的芯片，所以很重要。

二、光刻機(jī)的工作原理

利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。

簡(jiǎn)單點(diǎn)來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)就是放大的單反，光刻機(jī)就是將光罩上的設(shè)計(jì)好集成電路圖形通過(guò)光線的曝光印到光感材料上，形成圖形。

三、光刻機(jī)的性能指標(biāo)

光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。

分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源波長(zhǎng)分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準(zhǔn)分子激光器等。