一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根據不同的曝光光源分為不同的類型，曝光光源從寬譜紫外線發(fā)展到I線（365nm）、KrF線（248nm）、ArF線（193nm）以及EUV（13.5nm）光源，而不同的光源要求使用不同的光刻膠。KrF光刻膠就是運用KrF（248nm）曝光光源時所需要的光刻膠。KrF光刻膠主要應用于0.13m以上線寬，包含離子注入層，抗刻蝕層等多種工藝中。

二、arf光刻膠是什么

ArF光刻膠，是半導體光刻膠的一種，屬于高端光刻膠產品，用來制造12英寸大硅片（硅晶圓）。在光刻膠產品中，半導體光刻膠技術壁壘最高；在半導體光刻膠產品中，ArF光刻膠是技術含量最高的產品之一。ArF光刻膠是第四代光刻膠，行業(yè)進入技術壁壘高，全球量產企業(yè)數量少。

三、krf光刻膠和arf光刻膠區(qū)別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領域，二者最大區(qū)別是光刻膠的光源波長不同，其中krf波長為248nm，arf波長為193nm，arf光刻膠的分辨率更好，技術含量更高。arf和krf都屬于深紫外光范疇，也都是duv光刻機應用光源，但是光源技術上相差一代。另外，由于光源波長不同，krf光刻膠和arf光刻膠也不能通用。