著錄信息
- 專利名稱：激光燒蝕單元
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN201480029211.6
- 公開(公告)號：CN105324832B
- 申請日：20140324
- 公開(公告)日：20171110
- 申請人：蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院,保羅·謝勒學(xué)院
- 發(fā)明人：德特勒夫·鞏特爾,丹尼爾·格羅利蒙德,浩·王
- 申請人地址：瑞士蘇黎世
- 申請人區(qū)域代碼：CH
- 專利權(quán)人：蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院,保羅·謝勒學(xué)院
- 洛迦諾分類：無
- IPC：H01J49/04,H01J49/10
- 優(yōu)先權(quán)：EPPCT/EP2013/056115 20130322
- 專利代理機構(gòu)：北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262
- 代理人：湯慧華;鄭霞
- 審查員：郭冰冰
- 國際申請：PCT/EP2014/055874 20140324
- 國際公開(公告)：WO2014/147260 20140925
- 進入國家日期：20151120
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
流道,氣霧劑,樣本,激光燒蝕,樣本室,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,側(cè)向,側(cè)向開口,成像應(yīng)用,燒蝕材料,質(zhì)量分布,激光束,沖洗,地層,激光,鄰近
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