1968年，畢業(yè)于中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)化學(xué)物理系畢業(yè)。
1968年至1971年，在蘭州煉油廠工作。
1973年，轉(zhuǎn)到中科院蘭州物理化學(xué)所工作。
1978年至1980年，在北京大學(xué)化學(xué)系攻讀碩士學(xué)位。
1980年，前往加利福尼亞大學(xué)洛杉磯分校留學(xué)。三年半后，獲得物理化學(xué)博士學(xué)位。
1984年起，在硅谷工作，在Intel公司中心技術(shù)發(fā)展部門從事電漿蝕刻工作。
1986年，轉(zhuǎn)到LAM研究所工作，歷任高級(jí)工程師、技術(shù)發(fā)展經(jīng)理。
1991年，曾任Applied Materials應(yīng)用材料公司副總裁，負(fù)責(zé)等離子體刻蝕部門的業(yè)務(wù)。另外，參與成立硅谷中國(guó)工程師協(xié)會(huì)，擔(dān)任第一、二任主席。
2004年，在上海創(chuàng)辦中微半導(dǎo)體設(shè)備公司，擔(dān)任公司董事長(zhǎng)兼總裁。
2021年，擔(dān)任中微半導(dǎo)體公司總經(jīng)理。
2012年，榮獲上海市“白玉蘭紀(jì)念獎(jiǎng)”、“上?？萍歼M(jìn)步一等獎(jiǎng)”。
2020年，位列“2020福布斯中國(guó)最佳CEO榜”第30位。
2024年，入選“2024福布斯中國(guó)最佳CEO”榜單。
2025年，入選“2025福布斯中國(guó)最佳CEO”榜單。
宏發(fā)
伊萊科
正點(diǎn)原子
泰和安