一、ITO濺射靶材的制作方法

1、真空熱壓

真空熱壓利用熱能和機(jī)械能對ITO粉體進(jìn)行致密化，可生產(chǎn)出密度為91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材。該方法可以輕松獲得接近預(yù)期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受設(shè)備和模具尺寸的限制，真空熱壓在制備大尺寸濺射靶材方面優(yōu)勢較小。

2、熱等靜壓

熱等靜壓（HIP）通過在壓力下燒結(jié)或在高溫下加壓來制備ITO濺射靶。與真空熱壓類似，HIP在加熱和加壓狀態(tài)下可以獲得高密度（幾乎是理論密度）和優(yōu)異的物理和機(jī)械性能的產(chǎn)品。但也受設(shè)備壓力和氣缸尺寸的限制。

3、常溫?zé)Y(jié)

室溫?zé)Y(jié)是先通過漿料澆注或預(yù)壓制備高密度靶材預(yù)制件，然后在一定氣氛和溫度下燒結(jié)得到ITO靶材。其最大的優(yōu)勢在于能夠生產(chǎn)大尺寸的濺射靶材。但與其他燒結(jié)方法相比，這種方法制成的靶材純度較低。

4、冷等靜壓

冷等靜壓（CIP）在常溫下以橡膠或塑料為覆膜材料，以液體為壓力介質(zhì)傳遞超高壓。CIP還可以制備更大尺寸的ITO濺射靶材。而且價格便宜，適合大批量生產(chǎn)。但CIP要求材料在0.1~0.9MPa的純氧環(huán)境中經(jīng)過1500~1600°C的高溫?zé)Y(jié)，具有較高的風(fēng)險。

二、ITO濺射靶材生產(chǎn)難點(diǎn)

1、粉末制備

粉末冶金最核心的競爭力就是粉體，能夠獨(dú)立生產(chǎn)高品質(zhì)穩(wěn)定的粉體的公司，會在未來占有一席之地。

2、大尺寸燒結(jié)工藝

ITO靶材的另一個難點(diǎn)就是燒結(jié)工藝，精準(zhǔn)的燒結(jié)工藝是燒結(jié)高品質(zhì)靶材的關(guān)鍵。燒結(jié)工藝細(xì)分為真空熱壓法、熱等靜壓法、常壓燒結(jié)法。目前高端顯示器用鍍膜靶材主要采用常壓燒結(jié)法，性價比高。

3、成本投入較大

ITO生產(chǎn)中需要使用非常多的大型設(shè)備，如冷壓機(jī)，大型模壓機(jī)，燒結(jié)爐，加工設(shè)備及綁定設(shè)備，每一項(xiàng)的投入都非常大。整廠的設(shè)備投入預(yù)計在5000萬以上（年產(chǎn)50噸），且因?yàn)槭悄芎拇髴?，日常的能源消耗也是非?？捎^的，運(yùn)營維護(hù)成本也比較高。

4、產(chǎn)品的驗(yàn)證

如何能夠自主的驗(yàn)證產(chǎn)品是否符合客戶的使用需求，是產(chǎn)品能否一次通過客戶驗(yàn)證并且順利導(dǎo)入生產(chǎn)的關(guān)鍵因素，所以企業(yè)自己配套綁定檢測設(shè)備及鍍膜機(jī)就是保證。