一、靶材是什么材料

靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶材目前被普遍應(yīng)用于平面顯示器（FPD)上。近年來(lái)，平面顯示器在市場(chǎng)上的應(yīng)用率逐年增高，同時(shí)也帶動(dòng)了ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。ITO靶材有兩種，一種是采用銦錫合金靶材，另外一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)。

2、用于微電子領(lǐng)域

靶材也被應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，相對(duì)來(lái)說(shuō)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是比較苛刻的?，F(xiàn)在12英寸（300衄口）的硅晶片也被制作出來(lái)，但是互連線的寬度卻在減小。目前硅片制造商對(duì)于靶材的要求都是大尺寸、高純度、低偏析以及細(xì)晶粒等，對(duì)其品質(zhì)要求比較高，這就要求靶材需要具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。

3、用于存儲(chǔ)技術(shù)上

存儲(chǔ)技術(shù)行業(yè)對(duì)于靶材的需求量很大，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，離不開大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用比較廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造出來(lái)的磁光盤有著使用壽命長(zhǎng)、存儲(chǔ)容量大以及可反復(fù)無(wú)接觸擦寫的特點(diǎn)。