著錄信息
- 專利名稱：構(gòu)造光敏裝置的方法
- 專利類型：發(fā)明
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201480039447.8
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN105378944B
- 申請(qǐng)日：20140512
- 公開(kāi)(公告)日：20171201
- 申請(qǐng)人：法國(guó)電力公司,國(guó)家科學(xué)研究中心
- 發(fā)明人：姆艾里阿姆·佩雷,金-弗朗索斯·古伊萊莫萊斯,勞倫特·洛姆貝茲,丹尼爾·林科特,斯泰凡·科林,金-盧克·佩勞阿德
- 申請(qǐng)人地址：法國(guó)巴黎
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：FR
- 專利權(quán)人：法國(guó)電力公司,國(guó)家科學(xué)研究中心
- 洛迦諾分類：無(wú)
- IPC：H01L31/054,H01L31/0232,H01L31/0216
- 優(yōu)先權(quán)：FR1354618 20130522
- 專利代理機(jī)構(gòu)：上海天協(xié)和誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31216
- 代理人：張軼
- 審查員：謝中亮
- 國(guó)際申請(qǐng)：PCT/FR2014/051093 20140512
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：WO2014/188105 20141127
- 進(jìn)入國(guó)家日期：20160111
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
上表面,電化學(xué)工藝,疏水性材料,光敏裝置,透明材料,非光敏,聚光鏡,親水層,波長(zhǎng),光敏,噴灑,基層,覆蓋
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