著錄信息
- 專利名稱：產(chǎn)生第二階厄米復(fù)變函數(shù)高斯光束的裝置
- 專利類型：實(shí)用新型
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201521029630.8
- 公開(公告)號(hào)：CN205281028U
- 申請(qǐng)日：20151210
- 公開(公告)日：20160601
- 申請(qǐng)人：華南師范大學(xué)
- 發(fā)明人：黃加耀,鄧富,余偉浩,趙瑞璜,柯博,廖志強(qiáng),鄧冬梅
- 申請(qǐng)人地址：510631 廣東省廣州市天河區(qū)中山大道西55號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN440106
- 專利權(quán)人：華南師范大學(xué)
- 洛迦諾分類：無
- IPC：G02B27/09
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：深圳市智圈知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44351
- 代理人：韓紹君
- 審查員：無
- 國(guó)際申請(qǐng)：無
- 國(guó)際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無
- 分案申請(qǐng)：無
關(guān)鍵詞
高斯光束,厄米,分光,空間光調(diào)制器,傅里葉變換,準(zhǔn)直擴(kuò)束器,反射方式,反射光束,分光棱鏡,灰度信息,機(jī)械加工,透鏡光闌,相位調(diào)節(jié),相位掩膜,信息傳輸,預(yù)先加載,裝置結(jié)構(gòu),起偏器,線偏振,操控,出射,對(duì)線,擴(kuò)束,偏振,準(zhǔn)直,生物學(xué),實(shí)用,醫(yī)學(xué),軍事,應(yīng)用
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