著錄信息
- 專利名稱：一種晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置
- 專利類型：實(shí)用新型
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201620121534.4
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN205556200U
- 申請(qǐng)日：20160216
- 公開(kāi)(公告)日：20160907
- 申請(qǐng)人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 發(fā)明人：王強(qiáng),任忠祥,李香芝,徐現(xiàn)剛
- 申請(qǐng)人地址：261061 山東省濰坊市高新區(qū)金馬路9號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN370705
- 專利權(quán)人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 洛迦諾分類：無(wú)
- IPC：C02F1/78
- 優(yōu)先權(quán)：無(wú)
- 專利代理機(jī)構(gòu)：濟(jì)南日新專利代理事務(wù)所 37224
- 代理人：王書剛
- 審查員：無(wú)
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
處理槽,廢水,臭氧發(fā)生器,臭氧輸入管,有機(jī)物,微孔曝氣盤,氧化降解,臭氧,環(huán)境無(wú)污染,尾氣排放管,污水排放管,臭氧降解,分散氣泡,晶片磨削,污水進(jìn)管,有效降解,廢水COD,二氧化碳,磨削,氣源,伸入,種晶,沉淀,過(guò)濾
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